Double

Informations de base.

Description du produit

La coucheuse par pulvérisation magnétron DC à double cible est un équipement de revêtement par pulvérisation magnétron rentable développé indépendamment par notre société. Il est standardisé, modulaire et personnalisable. Vous avez le choix entre des cibles magnétron de 1 ou 2 pouces. Les clients peuvent choisir la cible en fonction de la taille du substrat à revêtir. L'appareil est équipé de deux alimentations DC de 500 W. L'alimentation CC peut être utilisée pour la préparation de films métalliques. Les deux cibles peuvent répondre aux besoins de revêtements multicouches ou multiples.
La machine de revêtement est équipée d'un débitmètre massique de haute précision à deux canaux. Si vous avez d'autres exigences, vous pouvez personnaliser le cheminement du gaz de débitmètres massiques à quatre canaux maximum pour répondre aux exigences complexes de construction d'un environnement gazeux. L'instrument est équipé d'ensembles de pompes turbomoléculaires avancés, le vide ultime peut atteindre 1,0E-5Pa et d'autres types de pompes moléculaires sont disponibles à l'achat. Le chemin du gaz de la pompe moléculaire est contrôlé par plusieurs électrovannes, vous pouvez ouvrir la chambre pour retirer l'échantillon sans arrêter la pompe, améliorant considérablement votre efficacité de travail. Ce produit peut être équipé d'un ordinateur industriel intégré pour contrôler le système. Dans le programme informatique, la plupart des fonctions telles que le contrôle de la pompe à vide et le contrôle de la puissance de pulvérisation peuvent être réalisées, ce qui peut encore améliorer votre efficacité expérimentale.